膜厚测量仪（测量厚度1nm~1.8mm）MPROBE - MAKING THIN FILMS THICKNESS MEASUREMENT EASY
美国Semisonsoft公司MProbe系列薄膜测厚仪测量厚度可以低至1nm，厚至1.8mm，埃级分辨率，非接触式无损快速测量。广泛应用在各种生产或研究中，比如测量薄膜太阳能电池的CIGS层，触摸屏中的ITO层等。大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量
测量原理：当规定波长范围的光照射到薄膜上时，从不同界面上反射的光相位不同，从而引起干涉导致强度相长或相消。而这种强度的振荡是与薄膜的结构相关的。通过对这种振荡拟合和傅里叶变换就可获得样品厚度和相关的光学常数。
比如：
半导体（硅，单晶硅，多晶硅）
半导体化合物（AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS）
微电子机械（MEMS）
氧化物/氮化物
光刻胶
硬涂层（碳化硅，类金刚石炭）
聚合物涂层（聚对二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺）
高分子聚合物
MProbe膜厚测量仪（测量厚度1nm~1.8mm）操作简单，只需一键操作即可获得样品的厚度、折射率（n, k）和表面粗糙度等信息，膜厚测量设备可支持不同光谱范围，光谱范围可达200-1700nm，因此可测量厚度范围可从1nm到2mm。 设备中无移动组件，所以测量结果几乎是即时得到的；TFCompanion测量软件使得测量过程非常简单且透明，测量历史、动态测量、模拟、颜色分析、直接在样品图像上显示结果。
膜厚测量仪https://www.chem17.com/st361024/product_36223234.html
http://www.auniontech.com.cn/SonList-2280399.html