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二硅化钼靶材MoSi2磁控溅射靶材

2020/8/25 16:24:27发布154次查看ip:27.189.206.166发布人:jingmaiyan

科研实验专用二硅化钼靶材MoSi2磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

      钼的硅化物为主要成分的陶瓷。硅-钼系统存在硅化三钼、三硅化五钼和二硅化钼,主要为二硅化钼(MoSi2)。硅化钼陶瓷为灰色、有金属光泽的晶体,具有优良的高温抗氧化性能。
产品参数
中文名二硅化钼   化学式MoSi2
分子量154.13     熔点2030℃
密度6.24g/cm3
支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
       陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!
       我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。
       注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!
       建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。


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