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硫化亚铜靶材Cu2S磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

2020/8/25 15:41:57发布154次查看ip:27.189.206.166发布人:jingmaizhongke

科研实验专用硫化亚铜靶材Cu2S磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

      硫化亚铜(Cu2S)呈黑色或灰黑色,在自然界以辉铜矿(也称辉铁矿)形式存在;硬而脆,导电;对热稳定,不溶于水、丙酮、硫化铵、稀硫酸和稀盐酸;稍溶于氨水溶于氰化钾溶液,在硝酸和热浓硫酸中分解,跟硝酸反应生成硝酸铜、硫和一氧化氮;在隔绝空气下加热生成铜和硫化铜,在空气存在下生成氧化铜、硫酸铜和二氧化硫。用作制防污涂料、固体润滑剂、催化剂、太阳电池等。
产品参数
中文名 硫化亚铜          化学式 Cu2S
分子量159.158            密度 5.6g/ml
熔点 1100℃              纯度 99.9%

支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
       陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!
       我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。
       注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!
       建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。



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