该设备利用频率为2.45ghz的微波激励稀薄气体放电，从而产生等离子体。真空反应室为φ50mm的石英管腔体。放置样品的基片台可以方便地在反应腔体内上下升降调节。
基片台位于石英管反应腔体的中心，该基片台除了基本的上下升降功能外，同时具有水冷控温的功能，双层水冷支架与基片台可方便地拆卸与维护，即使样品以不同的形态（片状、块状、粉末状等）出现，更换或改装基片台也十分方便。
石英管反应腔两端有双层水冷套作降温保护，端口以不锈钢部件固定并密封（加橡胶）石英腔体，以确保反应腔的安全稳定工作。
该设备的真空系统采用2xz-2型旋片真空泵，极限真空6×10－1帕，
抽速2升/秒，额定转速1400转/分，机械泵与真空室之间设置有电磁阀和高真空隔膜阀，旁路管道设置另一隔断阀（高真空微调阀），以便于真空系统运行安
全及工作时反应气体压强的灵活控制。真空密封采用金属和橡胶密封，通常：相对不动接口采用金属铜密封，相对可动接口采用橡胶密封。
真空测量采用数字压阻式真空计，用来测量反应腔内的工作气压
典型应用：
1.等离子体化学气相沉积。a（气）+b（气）→c（固）+d（气）。反应气体a、b被激发为等离子状态，其活性基团发生反应生成所需要的固态物沉积在基片上，可广泛用于薄膜或纳米材料的合成。如金刚石薄膜、碳纳米材料等。
2.等离子体表面刻蚀。a（气）+b（固）→c（气）。反应气体a被激发为等离子体状态与固体b表面原子发生反应生成气态物c，可用于集成电路的刻蚀实验。
3.等离子体催化反应。等离子体中具有丰富的活性成分，如紫外和可见光子、电子、离子、自由基，高反应性的中性成分如活性原子、受激原子态，从而可以引发在常规化学中不能或很难实现的化学反应。
4.等离子体表面改性。a（气）+b（固）→c（固）。反应气体a被激发为等离子体状态，与固体b表面发生反应，生成新的化合物，从而达到改变b物质表面性质的目的。广泛用于高分子材料、金属材料、生物医用材料的表面改性
主要配置：
真空泵：旋片真空泵采用单相220v交流电源，对实验室电源无特殊要求。
磁控管：采用工业上通用的磁控管，该磁控管具有使用寿命长、可靠性高的特点，维护方便。
真空计：采用压阻式真空计，用于测量工作时的工作气压。
温控仪：用于冷却水循环系统中的制冷及水温控制。
500w微波功率源：通过调节磁控管阳极电压的方法调节微波功率的输出，利用简单、可靠、易维护的电路实现微波功率的连续可调输出。
冷却水：装置自带循环冷却水，对实验室无水源要求，既节水又方便。
基本参数：
反应室工作压强：几百帕～十千帕
反应室极限压强: 6×10－1帕
反应室尺寸： φ50mm
微波功率： 0～500w
基片温控： 200～1000℃
安装环境：
供电： ac220v，50hz,最大功率2000w
温度、湿度、气源及冷却水：应保障设备工作稳定正常
安装室：室内整洁，空气流通，无尘埃。
接地线：室内具有独立接地线＜3ω
安装步骤：
确认安装环境
检查设备良好情况（运输过程中是否造成损坏）
安装真空泵、抽气管道、隔断阀及其它配件
连接电气柜至主机各电缆线
确认各电气部件完好无损
升降双层水冷支架，确认石英管、基片台及其它部件完好无损
连接并启动确认循环控制冷却水完好
连接好设备地线
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